Προσαρμοσμένα διαμορφωμένα οπτικά τμήματα σαπφείρου παραθύρων σαπφείρου με στίλβωση ακριβείας

Προσαρμοσμένα διαμορφωμένα τμήματα σαπφείρου παραθύρων σαπφείρου οπτικά με την ακρίβεια που γυαλίζει Προτεινόμενη εικόνα

Σύντομη Περιγραφή:

Τα οπτικά παράθυρα από ζαφείρι προσαρμοσμένου σχήματος αντιπροσωπεύουν την κορυφή της οπτικής μηχανικής ακριβείας, χρησιμοποιώντας μονοκρυσταλλικό Al₂O₃ που καλλιεργείται από τον Czochralski με ελεγχόμενο κρυσταλλογραφικό προσανατολισμό (συνήθως άξονας C ή άξονας A) για τη βελτιστοποίηση της απόδοσης για συγκεκριμένες εφαρμογές. Η ιδιόκτητη διαδικασία ανάπτυξης κρυστάλλων που διαθέτουμε αποδίδει υλικό με εξαιρετική ομοιογένεια (<5×10⁻⁶ διακύμανση δείκτη διάθλασης) και ελάχιστες εγκλείσεις (<0,01ppm), εξασφαλίζοντας συνεπή οπτική απόδοση σε όλες τις παρτίδες παραγωγής. Τα παράθυρα διατηρούν αξιοσημείωτη περιβαλλοντική σταθερότητα, με CTE 5,3×10⁻⁶/K παράλληλα με τον άξονα C, επιτρέποντας την απρόσκοπτη ενσωμάτωση σε συγκροτήματα πολλαπλών υλικών που υπόκεινται σε θερμικό κύκλο. Οι προηγμένες τεχνικές στίλβωσης που διαθέτουμε επιτυγχάνουν τραχύτητα επιφάνειας κάτω από 0,5nm RMS, κρίσιμη για εφαρμογές λέιζερ υψηλής ισχύος όπου τα επιφανειακά ελαττώματα θα μπορούσαν να προκαλέσουν ζημιά.

Ως κάθετα ολοκληρωμένος κατασκευαστής, η XKH παρέχει ολοκληρωμένες λύσεις, από τη σύνθεση υλικών έως την τελική επιθεώρηση:

Υποστήριξη Σχεδιασμού: Η ομάδα μηχανικών μας προσφέρει ανάλυση DFM (Σχεδιασμός για Κατασκευή) χρησιμοποιώντας προσομοιώσεις Zemax και COMSOL για τη βελτιστοποίηση της γεωμετρίας του παραθύρου για συγκεκριμένες οπτικές/μηχανικές απαιτήσεις.

Υπηρεσίες Πρωτοτυποποίησης: Ταχεία παράδοση (<72 ώρες) για την επικύρωση της ιδέας χρησιμοποιώντας τις εσωτερικές μας δυνατότητες λείανσης CNC και στίλβωσης MRF

Επιλογές επίστρωσης: Προσαρμοσμένες επιστρώσεις AR με αντοχή που υπερβαίνει τα πρότυπα MIL-C-675C, όπως:

Ευρυζωνική ζώνη (400-1100nm) <0,5% ανακλαστικότητα

Βελτιστοποιημένο για VUV (193nm) με >92% μετάδοση

Αγώγιμες επιστρώσεις ITO (100-1000Ω/τ.μ.) για θωράκιση EMI

Διασφάλιση Ποιότητας: Πλήρης σουίτα μετρολογίας που περιλαμβάνει:

Συμβολόμετρα λέιζερ 4D PhaseCam για επαλήθευση επιπεδότητας λ/20

Φασματοσκοπία FTIR για χαρτογράφηση φασματικής μετάδοσης

Αυτοματοποιημένα συστήματα επιθεώρησης για 100% έλεγχο επιφανειακών ελαττωμάτων

Στείλτε μας email

Χαρακτηριστικά

Τεχνικές παράμετροι

Ζαφειρένιο παράθυρο
Διάσταση	8-400 χιλιοστά
Ανοχή διαστάσεων	+0/-0,05 χιλιοστά
Ποιότητα επιφάνειας (ξύσιμο και σκάψιμο)	40/20
Ακρίβεια επιφάνειας	λ/10 ανά 633nm
Καθαρό διάφραγμα	>85%, >90%
Ανοχή παραλληλισμού	±2''-±3''
Λοξεύω	0,1-0,3 χιλιοστά
Επένδυση	AR/AF/κατόπιν αιτήματος του πελάτη

Βασικά χαρακτηριστικά

1. Υλική Ανωτερότητα

· Βελτιωμένες Θερμικές Ιδιότητες: Παρουσιάζει θερμική αγωγιμότητα 35 W/m·K (στους 100°C), με χαμηλό συντελεστή θερμικής διαστολής (5,3×10⁻⁶/K) που αποτρέπει την οπτική παραμόρφωση υπό ταχείες θερμοκρασιακές μεταβολές. Το υλικό διατηρεί τη δομική του ακεραιότητα ακόμη και κατά τη διάρκεια θερμικών μεταβάσεων από 1000°C σε θερμοκρασία δωματίου σε δευτερόλεπτα.

· Χημική Σταθερότητα: Δεν υποβαθμίζεται όταν εκτίθεται σε πυκνά οξέα (εξαιρουμένου του HF) και αλκάλια (pH 1-14) για παρατεταμένες περιόδους, καθιστώντας το ιδανικό για εξοπλισμό χημικής επεξεργασίας.

· Οπτική Βελτίωση: Μέσω προηγμένης ανάπτυξης κρυστάλλων στον άξονα C, επιτυγχάνεται μετάδοση >85% στο ορατό φάσμα (400-700nm) με απώλειες σκέδασης κάτω από 0,1%/cm.
· Η προαιρετική υπερημισφαιρική στίλβωση μειώνει τις επιφανειακές ανακλάσεις σε <0,2% ανά επιφάνεια στα 1064nm.

2. Δυνατότητες Μηχανικής Ακριβείας

· Έλεγχος Επιφάνειας σε Νανοκλίμακα: Χρησιμοποιώντας μαγνητορεολογικό φινίρισμα (MRF), επιτυγχάνεται τραχύτητα επιφάνειας <0,3nm Ra, κρίσιμη για εφαρμογές λέιζερ υψηλής ισχύος όπου η LIDT υπερβαίνει τα 10J/cm² στα 1064nm, παλμούς 10ns.

· Κατασκευή Σύνθετης Γεωμετρίας: Ενσωματώνει υπερηχητική κατεργασία 5 αξόνων για τη δημιουργία μικρορευστομηχανικών καναλιών (ανοχή πλάτους 50μm) και περιθλατικών οπτικών στοιχείων (DOE) με διακριτική ικανότητα <100nm.

· Ενσωμάτωση Μετρολογίας: Συνδυάζει την συμβολομετρία λευκού φωτός και την μικροσκοπία ατομικής δύναμης (AFM) για τον τρισδιάστατο χαρακτηρισμό επιφανειών, εξασφαλίζοντας ακρίβεια μορφής <100nm PV σε υποστρώματα 200 mm.

Κύριες εφαρμογές

1. Ενίσχυση Αμυντικών Συστημάτων

· Υπερηχητικοί Θόλοι Οχημάτων: Σχεδιασμένοι για να αντέχουν αεροθερμικά φορτία Mach 5+, διατηρώντας παράλληλα τη μετάδοση MWIR για τις κεφαλές αναζήτησης. Ειδικές νανοσύνθετες σφραγίδες ακμών αποτρέπουν την αποκόλληση υπό φορτία δόνησης 15G.

· Πλατφόρμες Κβαντικής Ανίχνευσης: Οι εκδόσεις εξαιρετικά χαμηλής διπλής διάθλασης (<5nm/cm) επιτρέπουν μαγνητομετρία ακριβείας σε συστήματα ανίχνευσης υποβρυχίων.

2. Καινοτομία Βιομηχανικών Διαδικασιών

· Λιθογραφία ημιαγωγών Extreme UV: Τα γυαλισμένα παράθυρα κατηγορίας AA με τραχύτητα επιφάνειας <0,01nm ελαχιστοποιούν τις απώλειες σκέδασης EUV (13,5nm) σε συστήματα stepper.

· Παρακολούθηση Πυρηνικού Αντιδραστήρα: Οι διαφανείς σε νετρόνια παραλλαγές (Al₂O₃ ισοτοπικά καθαρισμένες) παρέχουν οπτική παρακολούθηση σε πραγματικό χρόνο σε πυρήνες αντιδραστήρων Gen IV.

3. Ενσωμάτωση Αναδυόμενων Τεχνολογιών

· Οπτικές επικοινωνίες με βάση το διάστημα: Οι εκδόσεις που είναι ανθεκτικές στην ακτινοβολία (μετά από έκθεση γάμμα 1Mrad) διατηρούν >80% μετάδοση για διασυνδέσεις δορυφορικών λέιζερ LEO.

· Βιοφωτονικές Διεπαφές: Οι βιο-αδρανείς επιφανειακές επεξεργασίες επιτρέπουν την εμφύτευση παραθύρων φασματοσκοπίας Raman για συνεχή παρακολούθηση της γλυκόζης.

4. Προηγμένα Ενεργειακά Συστήματα

· Διαγνωστικά Αντιδραστήρων Σύντηξης: Οι πολυστρωματικές αγώγιμες επιστρώσεις (ITO-AlN) παρέχουν τόσο προβολή πλάσματος όσο και θωράκιση από ηλεκτρομαγνητικές παρενέργειες (EMI) σε εγκαταστάσεις tokamak.

· Υποδομή υδρογόνου: Οι εκδόσεις κρυογονικής ποιότητας (δοκιμασμένες στους 20K) αποτρέπουν την ευθραυστότητα του υδρογόνου σε παράθυρα προβολής αποθήκευσης υγρού H₂.

Υπηρεσίες και Δυνατότητες Εφοδιασμού XKH

1. Υπηρεσίες κατασκευής κατά παραγγελία

· Προσαρμογή βάσει σχεδίου: Υποστηρίζει μη τυποποιημένα σχέδια (διαστάσεις 1 mm έως 300 mm), γρήγορη παράδοση εντός 20 ημερών και πρωτοτυποποίηση για πρώτη φορά εντός 4 εβδομάδων.

· Λύσεις Επικάλυψης: Αντιανακλαστικές (AR), αντιρρυπαντικές (AF) και επικαλύψεις ειδικού μήκους κύματος (UV/IR) για την ελαχιστοποίηση των απωλειών ανάκλασης.

· Στίλβωση και Δοκιμή Ακριβείας: Η στίλβωση σε ατομικό επίπεδο επιτυγχάνει τραχύτητα επιφάνειας ≤0,5 nm, με συμβολομετρία που εξασφαλίζει συμμόρφωση επιπεδότητας λ/10.

2. Εφοδιαστική Αλυσίδα & Τεχνική Υποστήριξη

· Κάθετη Ολοκλήρωση: Πλήρης έλεγχος της διεργασίας, από την ανάπτυξη κρυστάλλων (μέθοδος Czochralski) έως την κοπή, τη στίλβωση και την επίστρωση, εγγυώμενος την καθαρότητα του υλικού (χωρίς κενά/όρια) και τη συνοχή της παρτίδας.

· Συνεργασία στον κλάδο: Πιστοποίηση από εργολάβους αεροδιαστημικής· συνεργασία με την CAS για την ανάπτυξη ετεροδομών υπερπλέγματος για εγχώρια υποκατάσταση.

3. Χαρτοφυλάκιο προϊόντων και εφοδιαστική

· Βασικό απόθεμα: Μορφές πλακιδίων wafer 6 ιντσών έως 12 ιντσών· τιμή μονάδας από 43 έως 82 (ανάλογα με το μέγεθος/την επίστρωση), με αποστολή την ίδια ημέρα.

· Τεχνική συμβουλευτική για σχέδια ειδικά για εφαρμογές (π.χ., κλιμακωτά παράθυρα για θαλάμους κενού, κατασκευές ανθεκτικές σε θερμικά σοκ).